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      產(chǎn)品詳細頁(yè)
      環(huán)境真空掃描電鏡

      環(huán)境真空掃描電鏡

      • 訪(fǎng)問(wèn)量:1934
      • 更新日期:2023-03-28
      • 產(chǎn)品介紹:Quattro SEM環(huán)境真空掃描電鏡為具有環(huán)境真空功能的靈活、多功能高分辨率掃描電鏡,可以將成像和分析全面性能與環(huán)境模式(ESEM)相結合,使得樣品研究得以在自然狀態(tài)下進(jìn)行。
      • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商

      產(chǎn)品介紹

      產(chǎn)地類(lèi)別進(jìn)口價(jià)格區間面議
      儀器種類(lèi)場(chǎng)發(fā)射應用領(lǐng)域化工,石油

      Quattro SEM環(huán)境真空掃描電鏡為具有環(huán)境真空功能的靈活、多功能高分辨率掃描電鏡,可以將成像和分析全面性能與環(huán)境模式(ESEM)相結合,使得樣品研究得以在自然狀態(tài)下進(jìn)行。

       

      Quattro的場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)‵EG)確保了優(yōu)異的分辨率,通過(guò)不同的探測器選項,可以調節不同襯度信息,包括定向背散射、STEM和陰極熒光信息。來(lái)自多個(gè)多個(gè)探測器和探測器區分的圖像可以同步采集和顯示,使得單次掃描即可獲得樣品信息,從而降低電子束敏感樣品的束曝光并實(shí)現真正額動(dòng)態(tài)試驗。Quattro的三種真空模式使得系統具有靈活性,可以容納廣泛的樣品類(lèi)型,無(wú)論樣品導電、絕緣、潮濕或是在高溫條件下,均可獲得可靠的分析結果。Quattro*的硬件有用戶(hù)向導支持,不僅可以指導操作者,還可以直接進(jìn)行交換,輕松縮短結果獲取時(shí)間。

       

      金屬及合金、斷口、焊點(diǎn)、拋光斷面、磁性及超導材料
      陶瓷、復合材料、塑料
      薄膜/涂層
      地質(zhì)樣品斷面、礦物
      軟材料:聚合物、藥物、濾膜、凝膠、生物組織、植物材料
      顆粒、多孔材料、纖維
      水合/脫水/濕潤/接觸角分析
      結晶/相變
      氧化/催化
      材料生成
      拉伸(伴隨加熱或冷卻)

       

      發(fā)射源:高穩定型肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍

      分辨率:

      型號

      Quattro C

      Quattro S

      高真空

      30kV(SE)

      1.0nm

      1kV(SE)

      3.0nm

      低真空

      30kV(SE)

      1.3nm

      3kV(SE)

      3.0nm

      30kV(BSE)

      2.5nm

      環(huán)境掃描模式

      30kV(SE)

      1.3nm


      放大倍率:6 ~ 2,500,000×
      加速電壓范圍:200V ~ 30kV
      探針電流范圍:1pA – 200nA,連續可調
      X-Ray工作距離:10mm,EDS檢出角35°
      樣品室:從左至右為340mm寬的大存儲空間,樣品室可拓展接口數量12個(gè),含能譜儀接口3個(gè)(其中2個(gè)處于180°對角位置)

       

      樣品臺和樣品:

       

      探測器系統:

      同步檢測多達四種信號,包括

      樣品室高真空二次電子探測器ETD
      低真空二次電子探測器LVD
      氣體SED(GSED,用于環(huán)境掃描模式)
      樣品室內IR-CCD紅外相機(觀(guān)察樣品臺高度)
      可用于樣品導航的彩色光學(xué)相機Nav-Cam™


      控制系統:
      操作系統:64為GUI(Windows10)、鍵盤(pán)、光學(xué)鼠標
      圖像顯示:24寸LCD顯示器,WUXGA 1920×1200
      定制化的圖像用戶(hù)界面,可同時(shí)激活多達4個(gè)視圖
      導航蒙太奇
      軟件支持Undo和Redo功能

       

      Quattro SEM環(huán)境真空掃描電鏡特點(diǎn)與用途:

          在自然狀態(tài)下對材料進(jìn)行預案為研究,具有環(huán)境真空模式(ESEM)的*高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡;

          縮短樣品制備時(shí)間:低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對不導電和/或含水樣品直接成像和分析,樣品表面無(wú)荷電累積;
          在各種操作模式下分析導電和不導電樣品,同步獲取二次電子像和背散射電子像;
          優(yōu)良的分析性能,樣品倉可同時(shí)安裝3三個(gè)EDS探測器,其中2個(gè)EDS端口分開(kāi)180°、WDS和共勉EDS/EBSD;
          針對不導電樣品的分析性能:憑借“壓差真空系統”實(shí)現低真空模式下的EDS和EBSD分析;
          靈活、準確的優(yōu)中心樣品臺,105°傾斜角度范圍,可多方位觀(guān)察樣品;
          軟件直觀(guān)、簡(jiǎn)便易用,并配置用戶(hù)向導及Undo(撤銷(xiāo))功能,操作步驟減少,分析更快速;
           創(chuàng )新選項,包括可伸縮RGB陰極熒光(CL)探測器、1100℃高真空熱臺和AutoScript。

       

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